تعداد ۱ پاسخ غیر تکراری از ۱ پاسخ تکراری در مدت زمان ۰,۶۴ ثانیه یافت شد.

1. The chemistry of metal CVD /

پدیدآورنده: edited by Toivo T. Kodas and Mark J. Hampden-Smith

کتابخانه: مرکز و کتابخانه مطالعات اسلامی به زبان‌های اروپایی (قم)

موضوع: Chemical vapor deposition,Electronic circuit design,Metallic films

رده :

TK7867

.

C46

1994

»
1
«

این پایگاه با مشارکت موسسه علمی - فرهنگی دارالحدیث و مرکز تحقیقات کامپیوتری علوم اسلامی (نور) اداره می شود
مسئولیت صحت اطلاعات بر عهده کتابخانه ها و حقوق معنوی اطلاعات نیز متعلق به آنها است